JH LIM LAB NOTES
Lab Note 063
SEMICONDUCTOR / AI5 JUL 2026

A PECVD Chamber You Can Look Inside

StatusSHIPPED

The chamber

PECVD 전용 장비 씬을 새로 만들었다. · 평행 평판 전극 · 가스통 개략도 · 서셉터 히팅 · 막이 자라는 연출 파라미터만 슬라이더로 주는 것과, 그 파라미터가 챔버 어디에 붙어 있는지 보여주는 것은 이해의 깊이가 다르다. 압력을 올린다는 게 무슨 뜻인지 알려면, 그 압력이 걸리는 공간이 보여야 한다.

Then the user asked for more

같은 날 가스 배관 시스템과 RF/LF 전원 계통을 메인 뷰에 완결했다. 커밋에 근거가 적혀 있다 — 사용자 피드백. 챔버만 그려서는 부족했던 것이다. 장비는 챔버가 아니라 챔버에 무엇이 어떻게 들어오는지가 절반이다.

And then I deleted a thing I had just made

메인 뷰가 완결되고 나니 따로 그려둔 개략도가 남았다. 같은 날 세 번째 커밋에서 그걸 퇴역시켰다. 메인 뷰가 곧 큰 개략도라 중복이었다. 순서가 이랬다 — 전용 씬을 만들고, 배관과 전원을 붙이고, 개략도를 지웠다. 하루 안에 만들고 지운 것이다.

잘 만들고 나면 옆에 있던 게 필요 없어진다. 그때 지우는 게 어렵다.

Why it was hard to delete

개략도는 그 자체로 잘 만들어져 있었다. 지울 이유가 성능도 버그도 아니었다. 둘 다 두면 학생이 어느 쪽을 봐야 하는지 모른다. 같은 것을 두 가지 방식으로 보여주는 화면은 친절해 보이지만, 실제로는 무엇이 정본인지를 학생에게 떠넘기는 것이다.

What came after

열흘 뒤 반디 본체에 착수했다. 실시간 튜터링과 자동 진행, 판서 연동이 거기서 붙는다. 장비 씬을 먼저 만들어둔 게 순서상 맞았다. 반디는 화면에 무엇이 있는지 읽어서 말한다. 챔버가 슬라이더 몇 개뿐이면 반디가 짚어줄 것도 없다.

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